国内溅射靶材价格

溅射靶材是集成电路制造过程中要反复用到的重要原材料，若溅射靶材的杂质含量过高，形成的薄膜就无法达到使用所要求的电性能，将严重影响薄膜的性能。半导体材料市场占比在3%左右的溅射靶材。半导体制造流程当中，溅射靶材无疑是重中之重的原材料，其质量和纯度对半导体产业链的后续生产质量起着关键性作用。目前，国内靶材厂商主要聚焦在低端产品领域，在液晶显示器、半导体和太阳能电池等市场还无法与国际巨头***竞争，但是，依靠国内的巨大市场潜力和利好的产业政策。受到技术、资金和人才的限制，多数国内厂商还处于企业规模较小、技术水平偏低、以及产业布局分散的状态。一方面，国外对所需溅射靶材的性能要求高、专业性强，属于技术密集型产业。而我国企业都为新进入者，在技术、人才等方面差距明显。

目前国内外都在推广应用旋转空心圆管磁控溅射靶，其优点是靶材可绕固定的条状磁铁组件旋转，因而360°靶面可被均匀刻蚀，利用率高达80%。靶材的性能要求靶材制约着溅镀薄膜的物理、力学性能，影响镀膜质量，因而靶材质量评价较为严格，主要应满足如下要求；1)杂质含量低，纯度高。靶材的纯度影响薄膜的均匀性。2)高致密度。高致密度靶材具有导电、导热性好、强度高等优点，使用这种靶材镀膜，溅射功率小，成膜速率高，薄膜不易开裂，靶材使用寿命长，而且溅镀薄膜的电阻率低，透光率高。3)成分与组织结构均匀。靶材成分均匀是镀膜质量稳定的重要***。在轴间等距离的环形表面上形成刻蚀区，其缺点是薄膜沉积厚度均匀性不易控制，靶材的利用率较低。仅为20%~30%。