孪生靶磁控溅射靶材

靶材，是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，它是半导体芯片制造中不可或缺的环节和材料。半导体芯片的需求市场比较庞大，集中在手机、PC、服务器、AI、物联网、电子汽车、5G等领域，庞大的市场还是手机、PC、可穿戴设备等电子消费产品。全球电子产品消费市场都不景气，且短期内很难迎来报复性增长。中国的集成电子领域是一个稳步增长的发展阶段，中芯国际等优势企业像雨后春笋般涌现出来。靶材：就是溅射工艺中必不可少的重要原材料。什么是高纯溅射靶材？就是利用各种高纯单质贵金属及新型化合物制得的功能薄膜为（简单理解就是纯度更高），的领域，像集成电路、平板显示器、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等行业。在溅射靶材应用领域中。半导体芯片对溅射靶材的要求是高的。

靶材中毒是由于在溅射过程中带有正电的离子聚集在靶表面。然后并没有得到中和，便出现靶表面负偏压逐步下降。这所谓的靶中毒现象。对于影响靶材中毒的因素是什么呢？1.影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。采用中频电源或射频电源打一个到两个小时，可以恢复。3.将靶材拆出来，用砂纸抛光，也可解决。控制镀膜模式的变换：在镀膜前，采集靶中毒的迟滞效应曲线，使进气流量控制在产生靶中毒的前沿，确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。防止靶材中毒，首先要***真空室不漏。清理内部，除去挥发成分等。