生产异质结靶材公司

磁控溅射镀膜靶材：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材。根据整理的数据显示，半导体行业2018年海外业务收入502亿，占半导体行业总营收1130亿元的约44.48%。由于高纯贵金属靶材制品技术难度大，需求量大而其资源又非常稀缺，因而要求贵金属的深加工技术朝高纯化、精细化、高效率的方向发展。高纯钽靶材和高纯铝靶的应用非常广泛。世界上50%-70%的钽以电容器级钽粉和钽丝的形式用于制作钽电容器。高纯铝工厂使用的联合法，就是以99.7%-99.9%的原铝为原料。先用三层电解法提纯到99.99%，而后通过偏析法可获得5N-6N或更高级的高纯铝和超纯铝。实现半导体5N级超高纯铝溅射靶基材实现批量供应。国内已有企业具备联合法提纯5N(99.999%)及以上超高纯铝和高纯化熔炼铸造生产能力的企业。打破了国外垄断。

根据世界半导体贸易统计协会2018年的数据，靶材应用领域中，面板市场占比较大，达33.8%，其次是记录媒体，占比达到28.6%，光伏电池占18.5%，半导体规模目前仅有11.4%。不同应用领域对靶材纯度要求不同。在金属纯度方面，半导体靶材纯度要求通常达99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上，显示靶材纯度要求99.999%（5N），磁记录和薄膜光伏电池纯度通常是99.99%（4N）。预计到2023年，全球和国内半导体对靶材的需求将分别上升至86.3亿、21亿元。国内半导体靶材需求占比将从2018年的16%上升至2023年的24%。“2019年度中国溅射靶材品牌评选”是由品牌排行网主办的范围广、规模大的品牌综合实力排名评选活动。经过多轮审核精选，尤特新材料（UVTM）被评为行业品质出众、旺的品牌。