起订量 (公斤) | 价格 |
≥1 | ¥960 |
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起订量 (公斤) | 价格 |
≥1 | ¥960 |
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产品参数
品牌 | 尤特新材 | 型号 | UVTM |
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产品详情
尤特的铟靶制造工艺在一体成型、高温压制的基础上做了改善和提升,纯度可做到4N5,在国内处于领先水平。铟靶材可用于用于微电子领域、平面显示、存储,是一种巨磁阻薄膜材料。尤特还拥有领先的靶材绑定技术和检测设备,可为客户绑定高世代大尺寸ito靶材。高纯度溅射靶材主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域,如半导体、平板显示器、太阳能电池、磁记录介质等。
生产半导体靶材的生产也有所突破。溅射靶材是用溅射法沉积薄膜的原材料,主要应用于面板显示、半导体和磁记录薄膜太阳能领域。其中,半导体生产对靶材的纯度有着更高的要求。半导体用靶材,纯度是关键,不同的应用领域,对靶材纯度的要求有所不同。
PVD技术出现于二十世纪七十年代末,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视,人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。
与CVD工艺相比,PVD工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。