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光学用氧化铌旋转靶材

发布时间:2024-03-29 08:03:30
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产品参数

品牌 尤特新材 型号 UVTM

产品详情

氧化物薄膜材料在液晶面板、触摸屏、薄膜太阳能电池、发光二极管等产业上获得了广泛应用。目前国内氧化物薄膜材料的制备方法和技术有很多,其中主要的方法有脉冲激光沉积、磁控溅射、电子束蒸发、分子束外延等物理方法。溅射镀膜是制备薄膜的主要技术之一,综合优势显著。

溅射薄膜制备的源头材料,又称溅射靶材。PVD镀膜目前主要有三种形式,分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。综合而言,蒸镀薄膜的密度较差,只能达到理论密度的95%,镀膜的附着力也较差,但是蒸镀的镀膜速率较快。离子镀不但密度较高、晶粒较小,而且镀膜与基板的附着力也是三种镀膜中较大的,只是离子镀膜较大的缺点是基板必需是导电材料,并且镀膜时基板的温度会升高到摄氏几百度,上述的缺点使离子镀的应用受到很大的限制。目前,溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,用溅射靶材沉积的薄膜致密度高,与基材之间的附着性好,所以从理论而言,溅射镀膜的性质,牢固度都比热蒸发和电子束蒸发薄膜好。